第七届国际先进光刻技术研讨会
(IWAPS 2023)
近年来,集成电路产业已经成为世界各国越来越重视的战略性产业,尤其在中国,集成电路产业受到了前所未有的关注,并在政策和资本的推动下获得了蓬勃发展。基于这样的形势,国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning Solutions, IWAPS)应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台,参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果,探讨图形化解决方案,研讨即将面临的技术挑战。
自2017年以来,IWAPS已经在全国各地成功举办六届。会议投稿、会议报告与参会人数逐年增加,行业反响热烈,业已成为国内高端光刻技术领域的重要会议。此外,IWAPS自2020年起已被IEEE收录,接收论文将被送检IEEE Xplore与EI。欢迎大家踊跃报名、投稿!
第七届IWAPS将于2023年10月26-27日于浙江丽水举行
欢迎各位学术和产业届的朋友莅临指导,积极投稿演讲
参会名额有限,有意者请及时报名参会
官网报名链接:
https://www.iwaps.org/cn/index/10
(点击阅读原文可跳转链接)
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主办单位
承办单位
协办单位
往届精彩回顾
IWAPS 2017 北京
IWAPS 2018 厦门
IWAPS 2019 南京
IWAPS 2020 成都
IWAPS 2021 佛山
IWAPS 2022 北京 线上
征稿范围
i. Optical Lithography
ii. Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography
iii. Advanced Patterning Technologies
iv. Metrology, Inspection and Testing
v. Design and Technology Co-optimization and Design for Manufacturability
vi. Materials
vii. Process
往年论文集
IWAPS 2020:
https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9286788/proceeding
IWAPS 2021:https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9670881/proceeding
IWAPS 2022:
https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9971792/proceeding
IWAPS 2023 会议筹备工作已经展开
更多信息,敬请关注会议官网
www.iwaps.org/cn
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以及“光刻人的世界”微信公众号
我们会随时更新
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