什么叫磁控溅射 磁控溅射的工作原理及其镀膜的优点

1.什么叫磁控溅射

磁控溅射是一种利用在真空室中加速离子并让它们撞击靶材以产生涂层的技术。通过施加恒定的磁场，利用磁控管或网格，可以将离子聚焦到极小的区域内，并且调节离子轨迹以达到想要的涂层效果。

2.磁控溅射的工作原理

在磁控溅射过程中，先将待涂覆物置于真空室内，减少其表面吸附的氧化物和水等杂质，然后向真空室注入某种稀有气体（如氩气）。随后，在真空室内通过电极产生低压放电，将氩气离子化并加速，最终撞击靶材形成涂层。

3.磁控溅射的优点

与传统的涂层技术相比，磁控溅射具有以下优点：

• 可以在较低的温度下操作，不会对涂覆物造成损伤；
• 可以选择不同的靶材和稀有气体以获得不同的涂层效果；
• 涂层密实、致密，附着力强，且具有良好的耐腐蚀性能；
• 可以在复杂形状的产品表面进行涂层，而传统喷涂技术则很难实现。