二次电子是指在物体被高能粒子或光子轰击后,被轰出并逸出该物体表面的电子。它是一种重要的电子显微镜成像技术中所使用的电荷感应探针。
1.二次电子名词解释
二次电子是指由某种形式的激励使得一个物体表面上原本束缚在那里的电子被释放出来,并从表面弹射走,这些被释放出去的电子就叫做二次电子。
二次电子是电子显微镜成像技术的关键组成部分之一,具有非常重要的应用价值。通过控制粒子束的能量和入射角度等参数,可以获得对样品表面高分辨率的成像效果。
2.二次电子的产生与危害
二次电子的产生是通过高能粒子或光子与物体表面的原子相互作用引发的。在电子显微镜成像技术中,通常使用高能电子轰击样品表面来产生二次电子。
需要注意的是,高能电子轰击可能会使得样品表面受到损伤甚至被氧化等,因此需要进行合适的实验条件选择,并对样品进行充分的保护以避免危害和影响成像效果。
3.二次电子成像原理及应用
二次电子成像技术是通过测量由二次电子所带来的电荷感应信号来进行成像。当高能电子轰击样品表面时,会产生一系列次级电子,包括二次电子和背散射电子等。
二次电子具有强烈的表面灵敏性和高分辨率特点,被广泛应用于各种表面形貌和材料性质的研究。例如,在材料科学、纳米电子学、生物医学等领域,二次电子成像技术都具有极其重要的应用价值。
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