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CINNO Research 产业资讯，AGC株式会社（旧名旭硝子，以下简称为“AGC”）旗下子公司AGC电子株式会社，决定扩大用于EUV曝光的光掩膜坯（Photo Mask Blanks，以下简称为“EUV光掩膜坯”）产能。且宣布该计划自2023年1月起开始生产，并将按计划逐步扩产，到2024年AGC集团的EUV光掩模坯产能将达到现在的两倍。
（图片来源：AGC官网）
根据AGC官网显示，近年来，EUV工艺不仅应用于逻辑半导体的生产，也被应用于DRAM等存储半导体的生产。AGC预计EUV光掩膜坯的需求会出现增长，同时用于新一代半导体的EUV光掩膜坯的出货量也会增加，因此此次决定扩大产能。
AGC于2003年开始着手研发用于半导体生产工艺（采用了EUV曝光技术的半导体工艺）的光掩膜坯。通过融合自身拥有的玻璃材料、玻璃加工、涂布（Coating）等技术，积极布局推进技术研发，于2017年开始生产EUV光掩膜坯。AGC作为全球唯一一家可以横跨“玻璃材料”到“涂布”的EUV光掩膜坯厂家，一直在根据市场需求、有计划地实施必要投资。在2020年7月，AGC电子决定进行厂房扩建的大规模增强工事，并已经于2022年1月开始生产。
在“AGC plus 2.0方针”的引领下，AGC集团把电子业务定为战略性事业之一。预计未来EUV光掩膜坯的需求会出现大幅度增长，因此AGC在积极根据市场需求进行设备投资，目标是到2025年实现400多亿日元（约22亿元）的销售额，持续为半导体行业的发展做出贡献。
关于EUV光掩膜坯
EUV光掩模坯是一种在低膨胀率玻璃基板的表面形成的多层薄膜。EUV Photomask（光掩模）是在EUV光掩模坯的表面形成的半导体芯片的原版线路，然后再将线路转移到硅晶圆上，形成半导体芯片。随着半导体线路的微缩化发展，针对EUV光掩模坯的以下要求水准愈来愈高。
●将极小尺寸的缺陷降低至近乎为零。
●极其高的平整度。
EUV曝光设备的概观图。（图片来源：AGC官网）
关于AGC电子株式会社
AGC电子株式会社总部位于日本福岛县郡山市，社长佐藤弘昌，注册资本金为300百万日元（约1650万元），员工人数约700名。主要业务内容为：玻璃浆料（Glass Frit，Glass Paste），采光器（Light Pickup）等光学电子产品，以及用于半导体生产设备的合成石英产品、用于EUV曝光的EUV光掩模坯。
