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CINNO Research产业资讯，东进世美肯（Dongjin Semichem）与三星电子合作，成功开发出半导体超细微工艺必备材料--极紫外线(EUV)光刻胶(PR)。EUV PR是2019年日本对韩出口管制的三大品种之一。技术难度高，全部依靠国外进口的产品，通过韩国企业间的相互合作成功实现了国产化。
东进世美肯华城园区鸟瞰图
据悉，东进世美肯最近通过了三星电子EUV 光刻胶从信赖性测试（品质认证）。对此比较了解的业界相关人士表示：“东进世美肯在京畿道华城工厂开发出了EUV光刻胶，在三星电子华城EUV产线上进行了测试，最终获得了品质认证”，并称“通过双方的合作，可以迅速开发具有高技术水平的EUV 光刻胶”。
光刻胶（PR）也被称为感光液，是半导体曝光工艺的核心材料。由光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、树脂、单体、溶剂和其他助剂组成，又称光致抗蚀剂。光刻胶可以通过光化学反应，通过曝光、显影等光刻工序将所需要刻蚀的细微图形从光罩（掩模版）转移到待加工硅基片上。光刻胶的作用，除了提高加工精度，它还可以保护硅基材免受腐蚀，阻止离子影响。
在韩国，目前氟化氪(KrF)和氟化氩（ArF）工艺用光刻胶已经实现量产，但能绘制更细微电路的EUV用光刻胶却一直未开发成功。因为开发难度很大，韩国使用的EUV光刻胶大部分都是从日本进口的。
2019年，东进世美肯公司在日本实行对韩出口管制后加快了EUV光刻胶的开发步伐。利用现有的氟化氩曝光机等自身的基础设施，以及比利时半导体研究所的IMEC EUV设备等，开始致力于实现EUV 光刻胶韩国国产化开发。今年年初，公司充实了EUV光刻胶领域的专业人才，加快了技术开发的步伐。再加上三星电子积极支持EUV测试环境，实现了现场可利用的质量高度化。业界相关人士评价称：“仅用2年的时间成功开发EUV光刻胶本身就相当困难”，“(通过EUV 光刻胶品质认证)是在三星电子合作支持下取得成果”。
EUV曝光机工作原理
三星电子是否会立即将东进世美肯的EUV光刻胶投入半导体生产线还是未知数。通常通过质量认证后就投入量产线。因此部分人预测最早明年上半年存在向三星电子供应的可能性。
对于通过EUV光刻胶质量认证，三星电子和东进世美肯方面均讳莫如深。三星电子相关人士表示：“无法确认与合作公司的质量认证”，并称“将为推动半导体材料、零部件、装备多样化而持续努力”。
东进世美肯EUV光刻胶相关主要日程
