光刻技术长期被“卡脖子”，上海微电子只能拼命往前

2007 年，上海微电子就研制出了我国首台 90 纳米高端投影光刻机，成为世界上第四家掌握高端光刻技术的公司。但是，十多年过去了，如今的光刻技术依旧停留在 90 纳米。

国产光刻机到底有多“难产”，我们在上上上上上上上一篇就说过了。

作为代表着我国光刻技术先进水平的上海微电子，从诞生之际就被寄予了厚望。

时间回到 2002 年，科技部下决心在“十五”期间将光刻机作为微电子装备首要攻关项目。在国家科技部和上海市政府共同推动下，由国内多家企业集团和投资公司共同投资组建下，为实现“用中国人的光刻机造中国芯”的梦想，2002 年 3 月，上海微电子装备有限公司（SMEE）在上海张江应运而生。

原本就职于上海电气集团执行副总裁的贺荣明，受上级指派担任上微总经理，带着同行的小伙伴们一头扎进了光刻机钻研之路。

SMEE 自“十一五”开始至今一直被国家确定为“02”科技重大专项高端扫描投影光刻机研制和先进封装光刻机产业化的承担单位。

什么是“02 专项”？

很简单，因为在国家划出的 16 个高科技领域重大专项中，关于芯片制造的项目排在第 2 位，所以行业统称为“02 专项”。

据悉，02 专项光刻机项目有多个部门参与，分别负责不同的子项。其中，上微也认领到了 02 专项的部分参与项目:

承担“浸没光刻机关键技术预研项目”

90nm 光刻机样机研制

65nm 光刻机研制

大视场 / 双面对准步进投影光刻机

28nm 节点浸没式分步重复投影光刻机研发成功并实现产业化等等。

在 02 专项光刻机项目二期中，设定的时间为 2020 年 12 月验收 193nmArF 浸没式 DUV 光刻机，对标产品为 ASML 现阶段最强 DUV 光刻机：TWINSCAN NXT:2000i。

距离今天倒计时，不到 4 个月

首台光刻样机问世

是什么卡住了我们的“脖子”？

当我国攻破这些难题之后，开始从 90nm 向 65nm 光刻机进发。得知此消息的国外阵营立刻摆出了第二张面孔，2015 年以美国为首的瓦森纳协议表示允许 65nm 以上的设备销售给中国。要知道，2010 年的可是禁售 90nm 以下的设备，到了 2015 年就改成了 65nm 以下了。

2017 年 1 月份，公司完成股改，正式更名为上海微电子装备（集团）股份有限公司。目前上海微电子自主研发的 600 系列光刻机，已经实现 90nm 的量产。在封装光刻机领域已经实现了批量供货，上微是多家封测龙头企业（日月光、通富微电、长电科技等）的主要供货商，国内封装光刻机市场占有率高达80%。不只在国内市场有所建树，上海微电子的封装光刻机还出口海外市场，在全球市场的占有率高达40%。

据公开资料显示，SMEE 直接持有的各类专利及专利申请超过3200 项，涉及光刻机、激光与检测、特殊应用类等各大产品技术领域，是国内工业 4.0、先进制造、智能制造的典型代表。

2020 年 6 月，SMEE 透露，将在 2021-2022 年交付首台国产 28nm 工艺浸没式光刻机。这则让全民都振奋的消息，意味着国产光刻机工艺从以前的 90nm 一举突破到 28nm。消息一出，ASML 就立即甩货同代与上代的光刻机抢占中国市场。还是一贯的伎俩、一如既往地的手段，但是，我们只能往前。

“你看过赛马吗？马的双目边都有块"板"，这样马的视觉广角小一点，更专心往前跑”，贺荣明说，“历史赋予我们这批人研发中国光刻机的任务，我们也就不该再想别的了。”