30亿EUV光刻机搬入！

据半导体业界3月11日报道，据悉，三星电子本月初已将ASML生产的首台高NA EUV设备“EXE:5000”引进华城园区。该设备价格昂贵，价值达5000亿韩元（24.95亿元人民币），而且全球只有ASML公司供应。

三星电子自去年以来一直对高NA EUV设备进行工艺应用评估，据称计划将其用于2nm以下的下一代半导体工艺。

EUV曝光设备利用极紫外光在半导体晶圆上绘制纳米级电路。半导体的电路线宽越窄，其功耗越低，数据处理速度越快。高NA EUV设备比现有的EUV设备性能进一步提高。高NA是一种通过增加透镜和反射器的尺寸来将表示聚光能力的数值NA从0.33增加到0.55的设备。

因此，高NA EUV被视为2纳米以下下一代代工工艺的必备设备。全球半导体公司也纷纷竞相引入高NA EUV。据悉，英特尔已签署购买共六台设备的合同，其中包括2023年交付的ASML首台高NA EUV。台积电近期也引进了设备，加速2nm工艺的导入。

有人预期，此类设备的引入可能成为三星电子的一张“逆转牌”。据市调机构TrendForce统计，台积电去年第四季晶圆代工市场份额为67.1%，较上年第三、四季度分别上升2.4个百分点。另一方面，三星电子在市场上陷入困境，同期股价从 9.1% 下跌 1% 至 8.1%。

随着差距不断扩大，有传言称台积电将成为2nm市场的赢家。据悉，台积电在去年底进行的2nm试产中，良率已经达到60%。随着三星电子也开始准备实现超精细电路，预计2纳米以下半导体工艺的竞争将更加激烈。三星电子将完成高NA EUV设备的安装，并开始构建全面的生态系统。

三星电子晶圆代工事业本部长韩进万在上任后首次向高管和员工发表讲话时表示，“我们率先实现了环栅（GAA）工艺转型，但商业化方面仍存在诸多不足”，并下令将快速提升2nm工艺产能作为首要任务。