光刻掩膜版用什么药液来洗？

知识星球（星球名：芯片制造与封测技术社区，星球号：63559049）里的学员问：光罩脏了，该如何清洗，洗的频率如何？用了什么原理？

掩膜版（光罩）为什么会脏？

以投影式光刻机与接触式光刻机为例，关于投影式与接触式光刻机见之前的文章：《什么是接触式/接近式/投影式/步进式光刻机？》

投影式光刻机中的掩膜版与晶圆之间虽没有直接接触，但光刻胶等挥发并凝聚在掩膜版表面，导致掩膜版被污染。

接触式光刻机中掩膜版与晶圆接触，而晶圆表面涂的有光刻胶，每次接触后都会有少量光刻胶残留，随着使用次数增加，掩膜版的污染会变得更加严重。

掩膜版变脏对光刻工艺的影响？

掩膜版上的污染物会导致光通过掩膜版时发生衍射或遮挡，使得晶圆上的图形失真，造成缺陷。

掩膜版用什么溶液清洗？

如果不是特别脏，可以用丙酮，IPA进行清洗。

如果比较脏，可以用H2SO4+H2O2进行强力清洗，H2SO4+H2O2清洗去除有机物效果很好。

用什么机台来洗？

有专门的掩膜版清洗机，国内的湿法设备大厂都有售，设备难度不是很高。

掩模版清洗频率？

根据不同的晶圆厂的要求有所不同，一般一周会做一次大清洗，有的会在一批产品做完光刻后，对掩膜版做一次小清洗。

知识星球中有Tom聊芯片智造的文章全集，在这里会针对学员问题答疑解惑，上千个半导体行业资料共享，内容比文章丰富很多很多，适合快速提升半导体制造能力，介绍如下：     《欢迎加入作者的芯片知识社区！》