在半导体制造领域,光刻工艺可以说是所有制造环节里最复杂的一道了。由此,无论是光刻机还是光刻胶都是大家关注的焦点,甚至在网络上也成为了热门话题不过相对而言,似乎光刻掩模版相关的话题热度就少了很多。其实这个领域也并不简单,在光刻掩模版及其上游供应链里也存在着大量的机会,值得行业关注
最近看到有人在微信群里讨论相关话题,我便想起自己电脑正好有相关供应商的数据,便顺手整理出来供大家参考这个表格里除了掩模版本身,也同时收录了其上游材料和配套产品的信息,供大家一并参考另外,目前我对掩模版(PhotoMask)的分类是按照应用领域进行区分的。如果按照技术路径区分,掩模版还可以分成Binary、Phase Shift、EUV等多种类型。限于篇幅,我在这篇文章里就不展开细聊了我的线上课程里后续会安排一节光刻技术的课程,我争取在这堂课里把光刻工艺、光刻机、光刻胶以及掩模版的基本原理和相关行业知识都讲清楚欢迎有兴趣的朋友届时报名,参与线上交流。谢谢
最后还是给我的线上课程带一下货:10月31号,我会和大家讨论一下半导体制造的一些基本概念。按照传统,每次课上第一部分,我会仔细和大家讲一下半导体市场的景气度以及后市预测
有兴趣的朋友,务必报名参加讨论。期待你的加入,谢谢