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01、JIC收购光刻胶巨头JSR
6月25日消息，据日经新闻报道，日本半导体设备制造商 JSR 昨日表示，该公司正在考虑一项由国家支持的日本产业革新投资机构（JIC）提出的收购提议，此举对 JSR 和日本的半导体战略都将产生重大影响。
报道称，JIC 正在就以约 1 万亿日元（约502亿元人民币）的价格收购 JSR 进行谈判，而 JSR 表示尚未作出任何决定，但董事会将在周一讨论此事。JIC 计划最早在今年与国内外反垄断机构达成协议后提出要约收购，如果收购成功，JSR 最快将于 2024 年从东京证券交易所退市。
02、光刻胶领跑者JSR
JSR（捷时雅）成立于1979年，自1979年4月销售光刻胶以来，JSR以满足半导体行业需求为宗旨，40多年来不断向全球客户提供光刻材料、CMP材料和封装材料，通过在自有设备上模拟重现客户的半导体工艺，快速有针对性的推荐相应材料及制造工艺条件。
JSR产品种类丰富，涵盖从签到工艺到后道工艺相关离子注入、栅极和配线工艺图案的光刻胶，用于CMP工艺的研磨液和清洗剂，以及用于封装各个工艺流程的临时键合材料、厚膜加工用光刻胶和感光性绝缘膜材料。
03、光刻胶市场由美日垄断
光刻技术是利用光化学反应原理和刻蚀方法将掩模版上的图案传递到晶圆的工艺技术，原理起源于印刷技术中的照相制版。光刻胶，是光刻工艺中的关键材料，主要应用于显示面板、印刷电路板、集成电路三大领域。
半导体光刻胶根据波长可分为G线光刻胶（436nm）、I线光刻胶（365nm）、KrF光刻胶（248nm）、ArF光刻胶（193nm）、EUV 光刻胶（13.5nm）等，分辨率逐步提升。曝光波长越短，光刻胶技术水平越高，适用的集成电路制程也更加先进。目前全球高端半导体光刻胶市场主要被日本和美国公司垄断，国产替代率较低。
SEMI数据显示，2021年全球半导体光刻胶市场约为24.71亿美元，同比增速19.49%。根据TECHCET数据披露，2020年全球半导体光刻胶市场ArFi占比最大（38%），其次为KrF（34%）、G/I线（16%）、ArF（10% ），EUV占比最小（1%）。
目前全球高端半导体光刻胶市场主要被日本和美国公司垄断，日企占据80%市场，处于绝对领先地位。主流厂商包括日本的东京应化（27%）、JSR（13%）、富士、信越化学、住友化学，以及美国杜邦（17%）、欧洲AZEM和韩国东进世美肯等。
04、结语
光刻胶生产工艺复杂，技术壁垒高，其研发和量产需要企业长期的技术积累及研发投入。日本经济产业省4月曾表示，其目标是到2030年将日本半导体销售额增加两倍，达到15万亿日元，公布了加强日本国内半导体产业等方面的新战略。此次日本政府为收购JIC打算新成立一家注册资本达5000亿日元的新公司，而瑞穗金融集团旗下的瑞穗银行将提供 4000 亿日元融资，下如此血本，恐怕也是为了这个战略计划。
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