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/美通社/ -- 为提高对工艺技术的熟悉程度并增加光子集成电路（PIC）的可及性，OpenLight 今日宣布全面推出其工艺设计套件（PDK）采样器。 该PDK采样器是一款独特的芯片级PIC，其中包含OpenLight的标准PDK元件，令客户能够在自家实验室内全面测试PDK元件并验证模型，从而在PH18DA流片中实现一次成功。 其元件包括OpenLight异构激光器、光放大器、100G PAM4 EAM调制器，以及高塔半导体PH18DA工艺中的其他有源和无源元件。
OpenLight PDK采样器
新工艺技术的采用通常涉及一条陡峭的学习曲线，对客户而言是一项常见挑战，尤其是伴随着硅光子学领域的最新进展。 这款全新行业产品为客户提供了一条捷径，令其可以在定制PIC设计流片之前，获取直接来自实验室的数据，因而能够立即对各个PDK元件展开测试。 通过能够在自家实验室内测试PDK元件，客户对高塔半导体的PH18DA工艺信心增强，并且能够对PIC进行光学和电气探测。
OpenLight首席执行官Adam Carter博士表示："通过高塔半导体提供的这款‘万能'PIC， 客户可以更好地通过我们的开放平台对每个可用PDK元件进行采样。" "OpenLight的使命是率先为行业提供正确的设计工具，并加速PIC在各类市场和应用中的大规模使用。 我们期待通过我们强大的PDK采样器，为下一代设计铺平道路。"
高塔半导体模拟事业部高级副总裁兼总经理 Marco Racanelli博士表示："OpenLight将继续补充高塔现有的开放式晶圆代工产品。" "作为OpenLight的合作伙伴，此举将使高塔的PH18DA工艺更易于为共同客户所用，并帮助他们充分利用我们的技术。"
作为一家独立公司，OpenLight于2022年6月成立，推出了全球首款具有异构集成III-V族元件的开放式硅光子平台。 去年11月，该公司宣布其PDK全面上市。
OpenLight PDK采样器包含两个PIC。
