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纳米压印,中国企业有哪些?

09/24 09:47
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虽然高端光刻机领域,ASML一路绝尘,但是全球光刻机厂商,绝非ASML一家,能够在这个舞台上亮个相的,还有日本的尼康和佳能。

但尼康和佳能的光刻机产品,主要集中在i-line、KrF、ArF等类别,只能够完成7nm级更成熟的工艺制程,而对于大家熟悉的EUV光刻机,也都无能为力。

但我们今天讨论的不是光刻机,而是日本企业在这样的背景下,会做出什么样的选择。

有人说日本搞不定EVU光刻机,是因为当年在技术分岔路口,干湿路线之争,选择错了路线,从而眼睁睁看着ASML一路绝尘。那么而今,在ASML已成为绝对龙头的当下,日本企业想要在EUV领域和ASML一较高下,打破这个铜墙铁壁般生态几乎无可能,那么日本企业会作何选择呢?

种种迹象表明,日本公司并没有放弃一切能够赶超的机会。

近期,受益于全球半导体产能的扩张,日本佳能公司在传统光刻机领域获益颇丰。宣布扩大光刻机产能,投资额约380亿日元,这属于21年来首次。不仅如此,佳能还宣布将生产纳米压印光刻设备,称之为下一代设备。

在半导体领域,纳米压印替代的是光刻环节,通过将刻有电路图形的模板压印到相应的衬底上,实现图形转移后,然后通过热或者UV光照的方法使转移的图形固化,以完成微纳加工的“雕刻”步骤。

因为不需要复杂的光学系统,更不需要EUV光刻机那样庞大的、高功率的EUV的光源系统,因此其系统要精简很多。

纳米压印,在产业界早有应用,LED、MEMS、3D传感、生物芯片、显示及太阳能,以及近几年比较火的AR光波导光栅等等。

但应用于集成电路制造,还处于产业化初期阶段。在科研领域,已经有学者演示了通过纳米压印技术实现10nm分辨率的工艺。而大日本印刷(DNP)展示的一幅电子显微镜照片,测显示纳米压印技术能够实现14nm的线宽分辨率,相当于达到5nm芯片制程的能力。

简单、紧凑、成本低、能耗少、生产效率高,有望成为EUV光刻的替代工艺,这也成为了日本企业“换道超车”的希望所在。

国内这两年也有不少创业企业获得了资本市场青睐,典型的如天仁微纳,获得了中芯聚源、哈勃投资等头部机构的认可,研发了多款高精度紫外纳米压印设备,适用于DOE、AR/VR衍射光波导、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域。

作者简介:步日欣创道咨询创始人,北京邮电大学创业导师、经管学院特聘导师、天津市集成电路行业协会顾问。电子工程本科、计算机硕士学位,具有证券从业资格、基金从业资格、通过CFA LII考试,先后就职于亚信咨询、中科院赛新资本、东旭金控集团等,拥有IT研发、咨询、投融资十五年以上经验,关注投资领域为半导体、物联网、信创、智能制造云计算大数据等。

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公众号科创之道主笔,标准的EE、CS专业理工男。从事研发、咨询、投资工作15年,主要关注领域为半导体、人工智能、物联网、云计算等,目前专注于风险投资和企业服务领域,平时喜欢把一些工作上的感悟随手记下来,希望通过自己的文字,融合IT产业和投融资行业知识,为跨行业沟通搭建一座桥梁。