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  • “CoPoS热” 背后,AI 倒逼半导体封装进入 "板级时代"
    近年来,伴随着生成式AI与大语言模型的快速发展,用来训练AI大模型的数据量越来越庞大,单芯片晶体管密度却已逼近物理与经济双重极限。以GPT-4为例,其训练参数量达到了1800B,OpenAI团队使用了25000张A100,并花了90-100天的时间才完成了单次训练,总耗电在2.4亿度左右,成本约为6300万美元。 在惊人数据量的背后,隐藏着AI爆发式发展对半导体行业提出的算力和存力等挑战。如何应对挑战?凭借面板级RDL与玻璃基板实现关键突破,在产能、良率与成本之间重构平衡,CoPoS(Chip-on-Panel-on-Substrate)正在给出答案。
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    07/30 13:15
    “CoPoS热” 背后,AI 倒逼半导体封装进入 "板级时代"
  • 英特尔先进封装:助力AI芯片高效集成的技术力量
    在AI发展的浪潮中,一项技术正在从“幕后”走向“台前”,也就是半导体先进封装(advanced packaging)。这项技术能够在单个设备内集成不同功能、制程、尺寸、厂商的芯粒(chiplet),以灵活性强、能效比高、成本经济的方式打造系统级芯片(SoC)。因此,越来越多的AI芯片厂商青睐这项技术。 英特尔自本世纪70年代起持续创新,深耕封装技术,积累了超过50年的丰富经验。面向AI时代,英特尔
    英特尔先进封装:助力AI芯片高效集成的技术力量
  • 芯片封装中的RDL
    封装中的RDL(Redistribution Layer,重分布层)是集成电路封装设计中的一个重要层次,主要用于实现芯片内电气连接的重新分配,并且在封装中起到连接芯片和外部引脚之间的桥梁作用。RDL的设计和实现直接影响到封装的电气性能、可靠性和制造成本。
    芯片封装中的RDL
  • RDL(重布线)工艺流程
    学员问:RDL是什么一种什么工艺,有什么作用?需要什么样的工艺做出来的?RDL是什么?RDL,全名Redistribution Layer,中文名重布线层。通过RDL工艺,可以将可以将I/O焊盘从芯片中心移到边缘,分布在更宽广的区域上。特别适用于需要高I/O数量的先进封装。
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    2024/11/10
    RDL
    RDL(重布线)工艺流程
  • 先进封装技术之争 | RDL线宽线距将破亚微米,赋能扇出封装高效能低成本集成
    随着先进封装的深入进展,重新分布层(RDL)技术获得了巨大的关注。这种革命性的封装技术改变了我们封装 IC 的方式。RDL 技术是先进封装异质集成的基础,广泛应用扇出封装、扇出基板上芯片、扇出层叠封装、硅光子学和 2.5D/3D 集成方法,实现了更小、更快和更高效的芯片设计。OSAT、 IDM和代工厂在这条道上的竞争日益激烈。如今RDL L/S 扩展到最先进 2μm及以下。未来三年将进入亚微米,赋能扇出封装更高效能集成。本文为各位看官汇报了相关趋势展望与企业技术进展。
    先进封装技术之争 | RDL线宽线距将破亚微米,赋能扇出封装高效能低成本集成