PECVD_PECVD资讯 - 与非网

学员问：PECVD中的shower head有什么作用？shower head是什么东西？如上图，Showerhead，又可翻译为喷淋头，花洒等，Showerhead通常紧贴反应区的上部，并作为气体入口，将反应气体通过其表面的小孔均匀地注入到腔体内。当然并不是仅仅只有气体分布的功能，有的设计好可以用来充当电极的一部分。

TOM聊芯片智造

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11/01 16:39

PECVD

拓荆科技科创板IPO获受理，募资10亿元加码高端半导体设备

拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。

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2021/07/13

半导体设备中芯国际

如果PECVD反应器中的等离子体无法稳定，如何排查问题

等离子增强化学气相沉积（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD）是一种常用的薄膜生长技术，其核心是产生并利用等离子体对反应物质进行激活和沉积。然而，有时候在PECVD反应器中，等离子体可能会出现不稳定的情况，导致薄膜的质量和均匀性下降。本文将详细探讨如何排查PECVD反应器中等离子体不稳定的问题及解决方法。

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08/20 09:51

PECVD

如何解决PECVD中出现的薄膜不均匀或缺陷问题

等离子增强化学气相沉积（PECVD）是一种常用的薄膜沉积技术，广泛应用于半导体、光电子、涂层和功能性薄膜制备领域。然而，在PECVD过程中，不均匀的薄膜沉积或薄膜缺陷可能会影响产品的质量和性能。本文将探讨如何解决PECVD中出现的薄膜不均匀或缺陷问题，以提高产品的质量和工艺稳定性。

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08/19 09:37

PECVD

在PECVD工艺中，如何优化等离子体功率和频率以提高薄膜质量

等离子增强化学气相沉积（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，简称PECVD）是一种重要的薄膜生长技术，广泛应用于半导体、光电子、涂层等领域。在PECVD工艺中，优化等离子体功率和频率是关键控制因素，直接影响着薄膜的成分、结构和性能。

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08/16 13:51

PECVD

等离子增强化学气相沉积（PECVD）中等离子体的作用有哪些

等离子增强化学气相沉积（PECVD）是一种常用的薄膜制备技术，通过在等离子体条件下进行化学反应，在固体衬底表面形成均匀、致密、具有良好性能的薄膜。等离子体在PECVD过程中起着关键作用，通过激活气体分子和表面反应，影响薄膜的生长速率、结构和性质。

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08/16 11:50

PECVD 薄膜技术

什么是PECVD？与常规CVD相比，它的优势是什么

PECVD（Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition）是一种利用等离子体增强化学气相沉积技朝制备具有特定性能的薄膜的过程。与传统的CVD（Chemical Vapor Deposition）相比，PECVD在沉积薄膜时采用了等离子体激活气体，从而提供了更多的优势和应用领域。

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08/16 11:45

CVD PECVD