HDPCVD

• 越制裁，越强大！重要性比肩光刻机的刻蚀设备——北方华创
  

  美日荷相继加大对华半导体设备出口限制，国产替代迫在眉睫。尽管中国是全球最大半导体消费市场，但本土化缺口明显，2023 年芯片自产率仅 20%、半导体设备国产化率为 35%、高端刻蚀机等关键领域国产化率不足 10%。随着国产晶圆厂的逆势扩张、海外制裁趋紧，本土半导体设备厂商有望扩大份额，预计2025年国产化率将达50%。 前面文章我们分析了国产半导体设备龙头之一的中微公司，今天我们继续深入研究半导体

  王兵

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  11/26 12:10

  与非研究院 NAND
• HDPCVD的原理
  

  知识星球里的学员问：麻烦介绍下HDPCVD的具体用途，原理。 什么是HDPCVD? HDPCVD，全名High Density Plasma Chemical Vapor Deposition，即高密度等离子体化学气相沉积。它产生的等离子体密度非常高，通常在10¹¹至10¹² ions/cm³的量级。相比之下，PECVD的等离子体密度就很低了，在间隔宽度小于0.5μm的情况下，用PECVD填充高的

  TOM聊芯片智造

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  09/09 17:40

  CVD HDPCVD

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