EUV光刻机_EUV光刻机是什么意思

28亿一台，全球首台High-NA EUV光刻机来袭，精度突破0.7nm

英特尔宣布全球首台商用 High-NA EUV 光刻机安装并通过验收，售价高达 28 亿元人民币。这款光刻机将大幅提高芯片制造的分辨率和套刻精度，有望推动英特尔在先进制程上的突破。尽管面临高昂的成本和技术挑战，英特尔认为这是对未来十年技术发展的关键投资。

芯火相承

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12/22 13:00

EUV光刻机 High-NA

EUV光刻机的发光原理

EUV光刻采用激光等离子体光源（LPP），通过高速喷射液态锡并用高功率激光将其加热至高温等离子体状态，从而发射出具有极高能量的13.5nm极紫外光。由于该波长的光子能量极高，可以电离几乎所有元素的原子外层电子，因此不能用传统透镜或气体激光方式产生。EUV光刻机的核心光源机制称为激光等离子体光源（LPP），其基本过程包括生成锡微滴、高功率激光轰击锡微滴使其成为高温等离子体，并最终发射出特定能量的13.5nm极紫外光。EUV光无法透过任何物质，所以在真空中运行并通过多层反射镜进行收集和成像。

TOM聊芯片智造

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11/18 10:15

EUV光刻机 EUV光刻

汤之上隆：台积电的竞争力，来自超150种EUV设备

台积电2025年第三季度销售额和营业利润创新高，分别达到331亿美元和167.5亿美元，营业利润率回升至50%以上。台积电的销售额主要来源于3nm和5nm制程节点，尤其是5nm和3nm节点的销售额增长显著。相比之下，7nm及以下制程节点的销售额和晶圆投入量呈下降趋势。台积电的核心业务从智能手机转向人工智能半导体，高性能计算业务迅速崛起，预计到2025年将成为最大收入来源。台积电凭借强大的EUV光刻技术优势，保持领先地位，其设备数量远超竞争对手。

半导体产业纵横

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11/12 11:31

半导体设备 EUV

EUV光刻机现身美国！三大巨头你争我抢

全球三大芯片巨头台积电、三星电子和英特尔在美国展开了一场激烈的“2nm争霸战”。台积电首次公开其在美国亚利桑那州凤凰城的Fab 21工厂内使用昂贵的EUV光刻机，彰显其领先地位。三星则宣布将在美国和韩国部署高数值孔径（High-NA）EUV光刻机，提升芯片制作精度。英特尔也宣布其18A工艺已进入量产阶段，并计划在未来三年内将其代工业务打造成台积电的竞争对手。这一系列动作标志着全球半导体格局正在发生重大转变，预示着一个全新的芯片时代即将到来。

芯火相承

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10/27 17:08

EUV光刻机

工程师聊DUV光刻机和EUV光刻机的区别

DUV光刻机使用短波长激光，在空气中和水中进行精细加工，依赖于光学系统和产线经验来保证稳定性。EUV光刻机采用锡等离子体产生极紫外光，工作环境要求极高真空，需要克服光路损耗和污染风险。两者的主要区别在于光源、光路和掩模的不同，EUV面临更高的物理极限和技术挑战，需要全面系统的优化才能稳定运行。

老虎说芯

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10/15 10:38

光刻机 EUV光刻机