EUV

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极紫外辐射(EUV)或高能紫外辐射是波长在124nm到10nm之间的电磁辐射,对应光子能量为10eV到124eV。自然界中,日冕会产生EUV。人工EUV可由等离子源和同步辐射源得到。主要用途包括光电子谱,对日EUV成像望远镜,光微影技术。 EUV是最易被空气吸收的谱段,因此其传输环境需高度真空。

极紫外辐射(EUV)或高能紫外辐射是波长在124nm到10nm之间的电磁辐射,对应光子能量为10eV到124eV。自然界中,日冕会产生EUV。人工EUV可由等离子源和同步辐射源得到。主要用途包括光电子谱,对日EUV成像望远镜,光微影技术。 EUV是最易被空气吸收的谱段,因此其传输环境需高度真空。收起

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  • EUV新局,巨头们的攻守之道
    如今,人工智能芯片的需求正以指数级速度疯涨,可高昂的成本和复杂的工艺,让这项技术沦为少数公司的 “专属”。不过,转机或许很快就会出现。为了给五花八门的人工智能应用 “撑腰”,对先进制程芯片的渴求一路狂飙,这给整个行业的供应能力带来了巨大压力。不管是支撑大型语言模型的超大规模数据中心,还是智能手机、物联网设备、自主系统里的边缘人工智能,前沿半导体在各个应用场景下的需求都在快速增长。但芯片制造严重依赖极紫外光刻(EUV)技术,该技术却成为扩大生产规模的关键阻碍。
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    阿斯麦(ASML)发布2024年第四季度及全年财报。2024年第四季度,ASML实现净销售额93亿欧元,毛利率为51.7%,净利润达27亿欧元。2024年第四季度的新增订单金额为71亿欧元2,其中30亿欧元为EUV光刻机订单。2024年全年净销售额达283亿欧元,毛利率为51.3%,净利润为76亿欧元。ASML预计2025年第一季度净销售额在75亿至80亿欧元之间,毛利率介于52%至53%;202
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    当笔者在读到美国发明家雷·库兹韦尔(Ray Kurzweil)的著作《后人类》时,我意识到:“能力呈指数级提高的人工智能(AI)将在2045年惠及全人类。”
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