CVD_CVD资讯 - 与非网

晶圆制造设备从类别上讲可以分为刻蚀、光刻、薄膜沉积、检测、涂胶显影等十多类，其合计投资总额通常占整个晶圆厂投资总额的 75%左右，其中刻蚀设备、光刻设备、薄膜沉积设备是集成电路前道生产工艺中最重要的三类设备。根据Gartner统计的数据，2013年至2023年，半导体前道设备中，干法刻蚀设备市场年均增速超过15%，化学薄膜设备市场年均增速超过14%，这两类设备增速远高于其他种类的设备。图|20

王兵

8280

11/12 10:37

CVD ALD

走过路过不要错过，进来看看全球半导体CVD/ALD设备商统计数据吧

昨天发布了设备电源、离子源的供应商数据，我正考虑接下来发布什么数据时，就有我知识星球的会员私信向我要CVD设备的供应商数据。好吧，那我就整理发布一下吧，顺便把ALD的也一并发布了

半导体综研

538

11/06 08:22

半导体设备 CVD

晶圆制造之化学气相沉积CVD工艺

在制造集成电路时，有时候我们需要在硅片（也就是晶圆）表面上沉积一些特定的材料层，比如氮化硅（Si₃N₄）或氮氧化硅（SiON）。这些材料层不能直接从基板上生成，所以我们采用化学气相沉积（CVD）这种方法。

老虎说芯

1817

09/17 10:25

晶圆制造 CVD

HDPCVD的原理

知识星球里的学员问：麻烦介绍下HDPCVD的具体用途，原理。什么是HDPCVD? HDPCVD，全名High Density Plasma Chemical Vapor Deposition，即高密度等离子体化学气相沉积。它产生的等离子体密度非常高，通常在10¹¹至10¹² ions/cm³的量级。相比之下，PECVD的等离子体密度就很低了，在间隔宽度小于0.5μm的情况下，用PECVD填充高的

TOM聊芯片智造

2181

09/09 17:40

CVD HDPCVD

什么是FCVD？

学员问：昨天在直播的时候有你说FCVD，我之前是没有听过这类的CVD，可以详细介绍一下吗？FCVD，全称是Flowable Chemical Vapor Deposition，即流动化学气相沉积。结合了旋涂电介质 (SOD) 优异的间隙填充性能和 CVD 的工艺稳定性，用来制造线宽在20 纳米以下的ILD（层间介电质）。

TOM聊芯片智造

9936

08/15 08:37

CVD

晶圆制造CVD工艺面试知识点小结

无锡某Fab工程师工作5年的王工分享了CVD工艺岗位的面试问题及知识点如下，仅供参考：

老虎说芯

1841

08/14 09:06

晶圆制造 CVD

晶圆制造CVD工艺常见面试问题

在无锡某Fab工程师工作5年的王工分享了CVD工艺岗位的面试问题：这些问题覆盖了CVD工艺的各个方面，包括基础知识、工艺优化、设备管理以及实际应用。

老虎说芯

3680

08/13 13:37

晶圆制造 CVD

用钻石代替 GPS 来导航？

许多应用，包括手机和汽车传感器，都广泛使用磁力测量技术。传感器通常很大、很贵，而且需要低温冷却，这对可用性有不利影响。为了获得最高的灵敏度，金刚石驱动设备成为一种紧凑、便携的选择。近日，Element Six与其合作者SBQuantum 、英国华威大学分别发布了基于量子金刚石的应用拓展方面的合作进展。

DT半导体

951

08/02 11:20

CVD 金刚石

晶圆？还是晶方？CVD金刚石晶圆尺寸怎么计算？

在以往的印象里，晶圆是圆的，芯片是方的。为什么叫晶圆？不叫晶方？为什么晶圆是圆的，芯片是方的？晶圆的尺寸怎么计算？……昨天，宁波晶钻60 mm × 60 mm的单晶金刚石片在行业内引起热度与讨论，这是3.35英寸？还是2.36英寸？业内究竟以什么为标准？

DT半导体

2092

08/02 11:06

晶圆 CVD

3.35英寸！宁波晶钻同质外延单晶金刚石再次突破

近日，在宁波晶钻科技股份有限公司的金刚石产业园内，一颗颗CVD大单晶金刚石如期上线。其中，一颗60 mm × 60 mm的单晶金刚石片映入眼帘。据了解，该金刚石片采用的是同质外延生长技术，这不是晶钻科技的首次突破！

DT半导体

1788

07/31 09:10

CVD 金刚石

特瑞堡完成半导体收购，扩大在亚洲的产能

Trelleborg完成了对韩国领先制造商MNE Group的收购，大大增强了其在半导体密封市场的能力。 MNE集团由材料纳米工程和材料纳米解决方案公司组成，主要为售后市场和原始设备制造商生产高性能特种密封件。此次收购为特瑞堡密封解决方案公司提供了新的产品和能力，并与全球最大的半导体本土市场之一的一些最重要的制造商建立了客户联系。 Trelleborg Sealing Solutions业务区总裁

与非网编辑

2346

05/16 16:13

半导体 CVD

流量控制器在半导体加工工艺化学气相沉积（CVD）的应用

薄膜沉积是在半导体的主要衬底材料上镀一层膜。这层膜可以有各种各样的材料，比如绝缘化合物二氧化硅，半导体多晶硅、金属铜等。用来镀膜的这个设备就叫薄膜沉积设备。薄膜制备工艺按照其成膜方法可分为两大类：物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积（CVD），其中CVD工艺设备占比更高。

sensorera

2631

03/29 07:37

CVD 流量控制器

功率SiC前景可期，现实是地主家也缺钱

8月22日，SiC（碳化硅）头部玩家Wolfspeed将氮化镓（GaN-on-SiC）射频业务出售给MACOM，出售金额为1.25亿美元。该业务最近的年收入约为1.5亿美元，是Wolfspeed（前Cree）五年前用3.45亿欧元从英飞凌收购的。看来，“地主家”也不富裕，这项预计在今年年底完成的交易资金将用于Wolfspeed碳化硅业务的扩产。值得一提的是，这并不是Wolfspeed第一次剥离业务

文立

3042

2023/10/16

SiC 碳化硅

全球半导体物理气相淀积设备供应商列表：国产厂商真心不多

在半导体制造、封装领域会用到大量的成膜设备，技术路径多样、不一而足。我个人一般把半导体成膜设备分为三大类：1）化学气相淀积（CVD：Chemical Vapor Deposition）- 包含ALD；2）物理气相淀积（PVD：Physical Vapour Deposition）；3）其它成膜设备。

半导体综研

4997

2023/10/01

CVD PVD

又一公司CVD设备发货，国产化到哪步了？

7月16日，微导纳米发布官方消息，公司的首台半导体CVD薄膜沉积设备顺利发货。微导纳米的iTronix®系列CVD薄膜沉积设备，主要用于制备氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、非晶硅等不同种类薄膜，可应用于逻辑、存储、先进封装、显示器件以及化合物半导体等领域芯片制造。

化合物半导体市场

2948

2023/07/18

半导体设备 CVD

除了光刻机，哪类设备国产替代空间最大？

半导体产业链环节多且复杂，尤其是上游半导体设备和材料，因制造流程繁多，涉及到很多细分行业。根据WSTS数据，中国半导体元器件市场在全球占比高达43%，而同期SEMI数据，中国半导体设备销售额296亿美元，全球占比29%，中国半导体设备市场规模全球占比低，相比与元器件市场非常不匹配。近期A股市场，以中微公司为代表的半导体设备公司表现异常抢眼。本文将梳理本土半导体设备厂商的竞争格局，定量感受本土厂商