直写光刻设备

• 与EUV相比，这一光刻技术更具发展潜力

  本文主要讨论直写光刻技术，它使用激光直接轰击对象表面，在目标基片上一次形成纳米图案构造，无需制备价格昂贵的掩膜版，生产准备周期较短。目前，该工艺技术已经被广泛应用于PCB、先进封装、FPD（显示面板）和掩膜版制造。

  半导体产业纵横

  1983

  2023/06/25

  光刻技术 直写光刻设备

  
• 先进封装成国产光刻机全新突破口 芯碁微装携WLP-8率先“迎战”

  “2022年将是先进封装元年。”巨头持续加码，让这种认知正在成为业界共识。而这片徐徐展开的广阔蓝海，带来的不止是新的机遇，更是新的挑战，而挑战者远远不止是代工厂和封测厂。

  与非网编辑

  2447

  2022/03/14

  光刻机 先进封装

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