Supplyframe Supplyframe XQ Datasheet5 Component Search Engine Findchips bom2buy Siemens Xcelerator
关注我们
扫码关注
获取工程师必备礼包
板卡试用/精品课
设计助手
电子硬件助手 电子硬件助手
元器件查询 元器件查询

加入星计划，您可以享受以下权益：

  • 创作内容快速变现
  • 行业影响力扩散
  • 作品版权保护
  • 300W+ 专业用户
  • 1.5W+ 优质创作者
  • 5000+ 长期合作伙伴
立即加入

电子束

加入交流群
扫码加入
获取工程师必备礼包
参与热点资讯讨论

电子经过汇集成束。具有高能量密度。它是利用电子枪中阴极所产生的电子在阴阳极间的高压（25-300kV）加速电场作用下被加速至很高的速度（0.3-0.7倍光速），经透镜会聚作用后，形成密集的高速电子流。

电子经过汇集成束。具有高能量密度。它是利用电子枪中阴极所产生的电子在阴阳极间的高压（25-300kV）加速电场作用下被加速至很高的速度（0.3-0.7倍光速），经透镜会聚作用后，形成密集的高速电子流。收起

查看更多
类型
新鲜 热门

资讯

查看更多
  • 东方晶源深耕电子束量测检测核心技术 “三箭齐发”新一代EOS上“机”
    东方晶源深耕电子束量测检测核心技术 “三箭齐发”新一代EOS上“机”
    电子束量测检测设备是芯片制造装备中除光刻机之外技术难度最高的设备类别之一，深度参与光刻环节、对制程节点敏感并且对最终产线良率起到至关重要的作用。其最为核心的模块为电子光学系统（Electron Optical System，简称EOS），决定设备的成像精度和质量， 进而决定设备的性能。 作为电子束量测检测领域的先行者、领跑者，东方晶源始终坚持自主研发，不断深化研发投入、加速技术创新步伐，致力于为客
    1179
    08/21 07:17
    半导体工艺 电子束
  • lift off工艺为什么常用蒸发的方式镀膜？
    学员问：我观察到晶圆厂中lift off工艺，镀膜都是用的电子束蒸发的方式，很少有用磁控溅射的方式，为什么？
    1406
    08/13 09:43
    电子束 Lift off工艺
  • 光刻技术，有了新选择
    光刻技术，有了新选择
    光刻工艺是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。
    3685
    08/08 10:50
    光刻技术 电子束
  • 替代EUV光刻机，有戏吗？
    除了积极跟踪EUV光刻机的开发进程，芯片厂商也在寻找能够替代EUV光刻机的技术。被寄予厚望的不仅仅是电子束光刻技术。铠侠力推NIL压印工艺，声称有望在2025年实现5nm工艺；台积电采用DUV光刻技术同样实现了7nm工艺，并声称DUV光刻技术可以也可以实现5nm工艺。
    3077
    2022/09/30
    EUV光刻机 电子束
  • 电子束焊接原理
    电子枪中的阴极由于直接或间接加热而发射电子，该电子在高压静电场的加速下再通过电磁场的聚焦就可以形成能量密度极高的电子束，用此电子束去轰击工件，巨大的动能转化为热能，使焊接处工件熔化，形成熔池，从而实现对工件的焊接。
    1739
    2021/04/26
    电子束
与非星榜
相关标签