清洗机

加入交流群
扫码加入
获取工程师必备礼包
参与热点资讯讨论

电路方案

查看更多
  • 槽式清洗硅片转速多少正常
    如果你要问,槽式清洗硅片转速多少正常?如此看起来你是慢慢研究深入了,开始入门了。毕竟这个是细节深入的问题,对于答案来说,并非如此简单。因为槽式清洗硅片的转速取决于多种因素,如清洗方式、化学品种类、晶圆尺寸以及清洗的具体目标等。 简单的一句话,一定不足以能让大家满意,为此下面我们给大家准备了一些常见的转速范围及其适用情况: 低速旋转(100-300 RPM):在润湿步骤中,液体从喷嘴喷出,而盘片以相
    槽式清洗硅片转速多少正常
  • 槽式清洗和单片清洗区别在哪
    如果你对于槽式清洗和单片清洗的区别迷迷糊糊,那么今天我们就来找找这两种之间的相同与不同点。明白了这其中的细节,相信你可以更好的理解槽式清洗和单片清洗存在的不用点。 槽式清洗和单片清洗到底有什么区别呢? 其实综合来说这两种之间在工作原理、清洗效率以及成本控制等方面存在区别。对于具体的细节与内容,我们下面为大家详细解释了: 工作原理 槽式清洗:将多个晶圆放在花篮中,利用机械手依次将其通过不同的化学试剂
  • 湿法清洗设备公司太多了,得清洗一下了...
    半导体设备市场的销售额里差不多八成是前道设备的份额。我按照一般的行业共识,把前道设备分成:光刻、涂胶显影、CVD成膜、PVD成膜、其它成膜、干法、湿法、热处理、CMP、离子注入和检测量测11个大类(各家分类方法有差异,但基本区别不大)最近几年以来,晶圆制造设备一直是一级市场追逐的热门赛道。直到最近,也经常有投资人向我打听和咨询各种前道设备的项目。
    湿法清洗设备公司太多了,得清洗一下了...
  • 2024 CSEAC:半导体设备国产化加速,竞争力在哪里?
    尊重知识产权和打造差异化竞争优势是中国半导体产业健康发展的关键。当前,低价竞争导致的低毛利已成为行业发展的主要障碍,它削弱了设备企业的研发能力,阻碍了技术的迭代升级。半导体设备厂商需要维持40%-50%的毛利润率,以确保持续的研发投入和技术创新。非法的设备翻新和抄袭行为不仅侵犯了知识产权,也不利于企业的长期发展。
    2024 CSEAC:半导体设备国产化加速,竞争力在哪里?
  • 为什么高端刻蚀设备都选用远程等离子体源(RPS)?
    学员问:远程等离子体源(RPS)是什么?有什么优势?许多高端,先进的刻蚀,清洗机台都会配置远程等离子体源(RPS)。如Applied Materials Centura,Lam Research Kiyo都会用到RPS。RPS的原理是什么?