晶圆检测

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  • 怎么制备半导体晶圆片切割刃料?
    半导体晶圆片切割刃料的制备是一个复杂而精细的过程,以下是一种典型的制备方法: 一、原料准备 首先,需要准备高纯度的原料,如绿碳化硅和黑碳化硅。这些原料具有高硬度、高耐磨性和高化学稳定性,是制备切割刃料的理想选择。 二、破碎与筛分 颚式破碎:将原料放入颚式破碎机中进行初步破碎,得到一定粒度的颗粒。 筛分:通过筛分设备将破碎后的颗粒进行分级,筛选出符合要求的粒度范围。 三、湿法球磨分级 将筛分后的颗粒
    怎么制备半导体晶圆片切割刃料?
  • 降低晶圆TTV的磨片加工有哪些方法
    降低晶圆TTV(Total Thickness Variation,总厚度变化)的磨片加工方法主要包括以下几种: 一、采用先进的磨削技术 硅片旋转磨削: 原理:吸附在工作台上的单晶硅片和杯型金刚石砂轮绕各自轴线旋转,砂轮同时沿轴向连续进给。砂轮直径大于被加工硅片直径,其圆周经过硅片中心。 优点:单次单片磨削,可加工大尺寸硅片;磨削力相对稳定,通过调整砂轮转轴和硅片转轴之间的倾角可实现单晶硅片面型的
    降低晶圆TTV的磨片加工有哪些方法
  • 如何测量晶圆表面金属离子的浓度?
    学员问:在晶圆清洗后,我们如何测量晶圆表面的金属离子是否洗干净?金属离子浓度为什么要严格控制?金属离子在电场作用下容易发生迁移。如Li⁺,Na⁺、K⁺等可迁移到栅氧化层,导致阈值电压下降。
  • 无图形晶圆的颗粒检测原理
    学员问:在裸晶圆上,颗粒的检测是如何实现的?比较经典的颗粒检测机台有哪些?颗粒检测用什么光源?激光。激光束扫描旋转中的晶圆表面,在无颗粒的光滑表面上,激光束发生镜面反射,当激光遇到颗粒时,部分入射光线会向各个方向散射。在暗场照明中,散射光可以直接检测;在明场照明中,可以通过检测镜面反射光强度的变化来表示。
    无图形晶圆的颗粒检测原理
  • 苏试宜特,芯片电路修改能力达到5nm制程
    集成电路作为现代电子设备的核心,其质量和性能直接关系到电子产品的可靠性和稳定性。全球半导体产业的蓬勃发展,离不开集成电路检测行业的支持,第三方检测机构以其专业化服务、技术中立性等优势,逐渐成为产业链中不可或缺的一环。 2024年6月5日-6月7日,在2024世界半导体大会暨南京国际半导体博览会上,本土集成电路第三方检测公司苏试宜特展示了其众多解决方案,包括加速客户产品上市的失效分析整合服务、集成电
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    2024/06/14
    苏试宜特,芯片电路修改能力达到5nm制程
  • 微崇半导体董事长黄崇基:半导体量检测新方式探索——二谐波晶圆检测
    半导体质量控制贯穿于半导体制造的全过程,保障着芯片性能与生产良率。随着制程不断先进,工艺环节也逐渐复杂,对质量控制提出了更高的要求,对量测设备与检测设备的需求量倍增。微崇半导体成立于2021年3月,立足于非线性光学晶圆检测技术领域,致力于研发先进的半导体检测技术与半导体检测设备。目前,微崇半导体在开发二谐波检测技术方面积累了丰富的经验。
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  • 半导体制程不断微缩挑战下,本土光学检测设备如何从后道封装走进前道FAB?
    随着半导体制程不断向下微缩,内部结构的复杂度也在不断提高,检测测试行业面临越来越多的挑战。

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