掩模光刻_掩模光刻是什么意思 - 与非网

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光刻工艺中，什么是Binary mask和Phase Shift Mask？一次讲明白！
在半导体光刻技术中，光掩模（Photo mask）是芯片制造的核心工具之一，其作用类似于传统照相的底片，通过控制光线透射或阻挡，将电路图案转移到硅片上。随着芯片制程不断微缩至纳米级，掩模技术也在持续演进。其中，

国芯制造

1.7万

2025/05/06

光刻技术光掩膜版
全球半导体光刻掩模版及配套材料供应商整理（73家）
网上做光刻机科普的文章一大堆，光刻胶的介绍相对较少，而掩模版相关的资料就更少了在这里，我根据我一点有限的知识，也给大家简单讲解一下：客观来说，单凭光刻掩模版几个字是无法讨论和判断技术难度的。掩模版并不仅仅是用在半导体领域，印刷电路版、显示面板、硬盘、乃至其它各种微图形加工的领域里，我们都有机会用到掩模版

半导体综研

2014

2025/05/06

掩模光刻
从设计到做出一张光刻掩模版要多久？
学员问：光刻掩模版是如何做出来的，麻烦详细讲解下。设计分为四步：1. 讨论工艺步骤（约1小时）：工艺人员和设计人员会首先讨论掩膜板的设计要求，明确最终所需的图案、分辨率以及工艺需求。

TOM聊芯片智造

1369

2024/09/25

掩模光刻
行业数据：全球光刻掩模版供应商列表
在半导体制造领域，光刻工艺可以说是所有制造环节里最复杂的一道了。由此，无论是光刻机还是光刻胶都是大家关注的焦点，甚至在网络上也成为了热门话题不过相对而言，似乎光刻掩模版相关的话题热度就少了很多。其实这个领域也并不简单，在光刻掩模版及其上游供应链里也存在着大量的机会，值得行业关注

半导体综研

909

2023/10/30

光刻技术掩模光刻
深度丨当EUV薄膜成为“高精尖”芯片良率的关键
近20年来，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻胶一直是EUV光刻的三大技术挑战。近几年来，随着EUV光源的不断进展，EUV掩模开始位居三大技术挑战之首，而EUV掩模最困难的环节之一就是EUV薄膜。

AI芯天下

1445

2023/09/14

EUV 掩模光刻

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