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光掩膜板

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  • EUV掩膜版清洗技术挑战及解决方案
    EUV掩膜版清洗技术挑战及解决方案
    EUV(极紫外光)掩膜版是现代半导体制造工艺中关键的元件之一,在集成电路的光刻过程中扮演着至关重要的角色。由于EUV技术的精密性和高要求,掩膜版的质量直接影响到最终成品的良率。而在这些技术中,清洗掩膜版是一个不可忽视的环节。尽管EUV掩膜版的清洗步骤相较于硅片的清洗流程较少,但其面临的挑战却异常复杂,主要体现在颗粒去除、材料损伤、污染控制等方面。
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    我国超精细金属掩膜版材料获得新突破
    薄如蝉翼、贵过黄金的金属光罩,OLED面板用超精细金属掩膜版(FMM)决定着主流蒸镀OLED的质量和产量,是OLED产业最为重要的核心耗材。但也正因其进入门槛很高、市场依赖性强,成为套在面板厂商头上的隐形“魔咒”。
  • 光罩(Mask/掩膜版)的系统性讲解
    光罩(Mask/掩膜版)的系统性讲解
    光罩(Mask),也称为掩膜版,是集成电路(IC)制造过程中核心且关键的元件之一。作为光刻技术的核心工具,光罩将设计好的电路图案转移到晶圆表面,其质量直接决定了芯片制造的精度和性能。
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    学员问:光罩脏了,该如何清洗,洗的频率如何?用了什么原理?掩膜版(光罩)为什么会脏?以投影式光刻机与接触式光刻机为例,关于投影式与接触式光刻机见之前的文章:《什么是接触式/接近式/投影式/步进式光刻机?》
  • 产业丨光掩膜大涨?
    产业丨光掩膜大涨?
    光掩膜在半导体制造领域的广泛应用,彰显了其在技术创新与产业升级进程中的核心角色。伴随着半导体技术的日新月异,对光掩模的技术标准亦随之不断提升,这一趋势持续驱动着光掩模技术的深入发展与持续创新。