光刻机_光刻机资讯

学员问：为什么光刻机希望有更好的NA值，为什么？怎样提高？什么是NA值？如上图是Asml PAS5000型号的光刻机配置，每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA，又名数值孔径，是影响分辨率(R)，焦深（DOF）的重要参数，公式为

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01/13 14:23

光刻机

今年，ASML的High NA EUV光刻机成为设备新晋“顶流”。其数值孔径（NA）从之前标准 EUV 光刻机的 0.33 提升到了 0.55 ，镜头的分辨率从之前的13 nm提升到了 8 nm，能够实现2nm以下先进制程大规模量产。英特尔、台积电、三星哪怕豪侈巨资也要拿下。

半导体产业纵横

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2024/12/23

ASML 光刻机

深度丨EUV光刻机巨头风云争夺战

各大巨头在未来仍将围绕High-NA EUV设备展开激烈竞争，争相导入或宣布市场进展，预示着半导体行业将迎来新一轮技术革新。目前，英特尔、台积电、三星、SK海力士等晶圆制造大厂已纷纷对High-NA EUV光刻机表现出强烈的关注与行动。

AI芯天下

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2024/11/28

光刻机 EUV光刻机

无掩膜光刻机，微纳加工的下一个答案？

第十四届中国国际纳米技术产业博览会（简称“纳博会”）在万众瞩目中圆满落下了帷幕。这场全球纳米科技领域盛会，以1场主报告、13场分论坛、1场创新创业大赛，1场新产品发布会为主，汇聚了全球纳米科技领域的18位院士，450多位高校研究院所、上市公司、知名企业机构的顶级专家代表出席，分享专业报告476场，较往届增加132场，同比增长约33%，吸引9663位嘉宾参会听会。

芯师爷

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2024/11/12

光刻机微纳加工

整整185种！ASML、NIKON、CANON御三家光刻机型号大全

在所有半导体设备里，光刻机确实是一个最有话题热度的门类了。我之前从ASML、NIKON、CANON三家的官网上下载收录了他们目前销售的光刻机型号，并汇总做成表格供大家参考，读者反馈不错。更有行业大佬写文章时引用我的数据后更是给我的公众号带来一波巨大流量。

半导体综研

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2024/10/31

ASML 光刻机

全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注

近日，ASML发布最新三季度财报后，股价创26年来最大跌幅引起市场极大关注。在此期间，尼康和佳能陆续发布的光刻机研发最新进展也引起行业聚焦。

全球半导体观察

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2024/10/25

ASML 光刻机

为什么研发EUV光刻机那么难？

虽然表面上看，光刻机是半导体制造的工具之一，但它的背后涉及复杂的多学科交叉与全球化合作。EUV光刻机依赖于波长仅为13.5纳米的极端紫外线（EUV）光源，而这种光源的产生与控制是最大的技术挑战之一。你可以把EUV光源想象成一个非常难以控制的“灯泡”，但这个“灯泡”不仅需要在超高真空环境下工作，还必须产生极其稳定和强大的光束。任何微小的不稳定都会影响最终的成像效果。

老虎说芯

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2024/10/18

光刻机 EUV光刻机

ASML阿斯麦业绩“爆雷”，影响会波及多大？芯片需求真饱和了？

日前，荷兰光刻机企业阿斯麦公布业绩“爆雷”，当日股价大跌16.26%，创近26年来最大单日跌幅，拖累美股芯片股集体下挫，包括英伟达、AMD、英特尔等半导体企业都出现不同幅度的下跌。据悉，阿斯麦第三季度的订单量仅达到分析师预期的一半左右，并下调了2025年的业绩指引。

小刀马

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2024/10/17

ASML 光刻机

2024 CSEAC：半导体设备国产化加速，竞争力在哪里？

尊重知识产权和打造差异化竞争优势是中国半导体产业健康发展的关键。当前，低价竞争导致的低毛利已成为行业发展的主要障碍，它削弱了设备企业的研发能力，阻碍了技术的迭代升级。半导体设备厂商需要维持40%-50%的毛利润率，以确保持续的研发投入和技术创新。非法的设备翻新和抄袭行为不仅侵犯了知识产权，也不利于企业的长期发展。

夏珍

1.1万

2024/10/15

半导体设备与非研究院

纳米压印，中国企业有哪些？

欢迎关注硬科技的投资人和创业者加入“创道硬科技”平台，微信riseen001

步日欣

4万

2024/09/24

光刻机纳米压印技术

聊聊国内首台重大技术装备（2）

上次，介绍了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》中介绍的硅外延炉，湿法清洗机，氧化炉，见文章：《聊聊国内首台重大技术装备（1）》这次来解读一下目录中提到的匀胶显影机，光刻机及离子注入机。

TOM聊芯片智造

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2024/09/19

光刻机离子注入机

聊聊光刻机的原理、现状与未来

光刻机是半导体制造过程中的关键设备，相当于芯片制造工艺的“印刷机”，它的精度直接影响芯片的制程和性能。根据不同光源类型，光刻机可以分为UV（紫外线）、DUV（深紫外线）和EUV（极紫外线）三大类。光刻机的分辨率主要由两个参数决定：光源的波长（λ）和物镜系统的数值孔径（NA）。简单来说，波长越短、数值孔径越大，光刻机的分辨率就越高。

老虎说芯

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2024/09/18

光刻机半导体制造

特种玻璃巨头肖特发力半导体业务，新材料基板成为下一代芯片突破口

全球高科技特种材料领军企业肖特集团（SCHOTT AG）于9月12日举办媒体招待会，在第七届进博会举办倒数50天之际，向中国市场更深入地介绍半导体行业特种玻璃材料的应用范围、技术优势、市场前景以及在中国的布局和发展。随着人工智能、大数据等前沿领域的快速发展，各行各业对芯片的算力、带宽、互连密度提出了越来越高的要求。同时，未来芯片设计与制造还需要应对耗能极高的挑战。然而，芯片制造越来越受限于物理定

与非网编辑

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2024/09/12

光刻机芯片封装

大型科普（二）：为什么28nm光刻机哪怕上多曝也做不到7nm？

为什么28nm光刻机不能通过多曝工艺实现14nm，甚至7nm的光刻工艺？带着这样的问题，再经过中国半导体圈最热闹大群“爱生活，爱芯片，赚大钱”里各位大佬的各种科普和深度探讨，我感觉我自己的知识又增加了。反正咔嚓记下来不少，又是总之咔嚓不亏，最终咔嚓赢麻的一天！

启哥有何妙计

2.3万

2024/09/08

光刻机 28nm

大型科普：多曝工艺究竟是如何超过光刻机的极限分辨率？

这几天隔壁有群友问了我一个非常专业的问题：多曝工艺是什么？它是如何跨过光刻机的极限分辨率实现更小制程的工艺？好问题，毕竟半导体工艺的问题专业是真的专业，真不是普通人能理解的，网上很多理解都是错的。想要了解多曝工艺的问题，首先得了解这个知识点的前置知识，因此今天内容分三段，第一、光刻设备分辨率是怎么来的？第二、晶体管的特征尺寸以及等效工艺的命名方式？第三、多曝工艺是什么，一共有哪几种多曝工艺？？？

启哥有何妙计

1.9万

2024/08/31

光刻机光刻设备

Scanner为什么那么快？

学员问：ASML的TWINSCAN XT系列的scanner机台的WPH最高能达到300pcs，为什么Scanner的产能远远高于stepper？

TOM聊芯片智造

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2024/08/11

ASML 光刻机

ASML、NIKON、CANON光刻机型号参数汇总

之前，我发布了一个ASML光刻机的型号参数的汇总列表。看起来大家对这个数据非常感兴趣，实际的阅读量远超我最初的预估既然如此，那我就多发布一些数据吧。这次，我干脆把全球前道光刻机供应商御三家：ASML、NIKON、CANON的全部数据都一次性发布出来，供大家参考吧老粉丝应该或许还记得我以前也发布过这个数据。

半导体综研

1.1万

2024/08/09

ASML 光刻机

俄罗斯仍有5台ASML光刻机可用！

自俄乌冲突爆发之后，俄罗斯被众多国家和地区制裁，导致各种半导体芯片及设备的进口都受到了限制。这也迫使俄罗斯加大了对于自研、本土制造芯片的投入，但依然会面临设备、材料等很多方面的瓶颈。不过，据外媒《The Insider》报导，俄罗斯目前仍然可以通过一些途径从中国台湾进口硅晶圆（半导体硅片）等产品，这些是制造芯片所必须的原材料。

芯智讯

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2024/08/06

半导体设备光刻机