光刻机_光刻机是什么意思

学员问：为什么光刻机希望有更好的NA值，为什么？怎样提高？什么是NA值？如上图是Asml PAS5000型号的光刻机配置，每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA，又名数值孔径，是影响分辨率(R)，焦深（DOF）的重要参数，公式为

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01/13 14:23

光刻机

今年，ASML的High NA EUV光刻机成为设备新晋“顶流”。其数值孔径（NA）从之前标准 EUV 光刻机的 0.33 提升到了 0.55 ，镜头的分辨率从之前的13 nm提升到了 8 nm，能够实现2nm以下先进制程大规模量产。英特尔、台积电、三星哪怕豪侈巨资也要拿下。

半导体产业纵横

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2024/12/23

光刻机 ASML

深度丨EUV光刻机巨头风云争夺战

各大巨头在未来仍将围绕High-NA EUV设备展开激烈竞争，争相导入或宣布市场进展，预示着半导体行业将迎来新一轮技术革新。目前，英特尔、台积电、三星、SK海力士等晶圆制造大厂已纷纷对High-NA EUV光刻机表现出强烈的关注与行动。

AI芯天下

1856

2024/11/28

光刻机 EUV光刻机

无掩膜光刻机，微纳加工的下一个答案？

第十四届中国国际纳米技术产业博览会（简称“纳博会”）在万众瞩目中圆满落下了帷幕。这场全球纳米科技领域盛会，以1场主报告、13场分论坛、1场创新创业大赛，1场新产品发布会为主，汇聚了全球纳米科技领域的18位院士，450多位高校研究院所、上市公司、知名企业机构的顶级专家代表出席，分享专业报告476场，较往届增加132场，同比增长约33%，吸引9663位嘉宾参会听会。

芯师爷

1844

2024/11/12

光刻机微纳加工