光刻机_光刻机是什么意思

深度丨EUV光刻机巨头风云争夺战

各大巨头在未来仍将围绕High-NA EUV设备展开激烈竞争，争相导入或宣布市场进展，预示着半导体行业将迎来新一轮技术革新。目前，英特尔、台积电、三星、SK海力士等晶圆制造大厂已纷纷对High-NA EUV光刻机表现出强烈的关注与行动。

AI芯天下

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11/28 10:50

光刻机 EUV光刻机

无掩膜光刻机，微纳加工的下一个答案？

第十四届中国国际纳米技术产业博览会（简称“纳博会”）在万众瞩目中圆满落下了帷幕。这场全球纳米科技领域盛会，以1场主报告、13场分论坛、1场创新创业大赛，1场新产品发布会为主，汇聚了全球纳米科技领域的18位院士，450多位高校研究院所、上市公司、知名企业机构的顶级专家代表出席，分享专业报告476场，较往届增加132场，同比增长约33%，吸引9663位嘉宾参会听会。

芯师爷

1098

11/12 09:20

光刻机微纳加工

整整185种！ASML、NIKON、CANON御三家光刻机型号大全

在所有半导体设备里，光刻机确实是一个最有话题热度的门类了。我之前从ASML、NIKON、CANON三家的官网上下载收录了他们目前销售的光刻机型号，并汇总做成表格供大家参考，读者反馈不错。更有行业大佬写文章时引用我的数据后更是给我的公众号带来一波巨大流量。

半导体综研

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10/31 11:30

光刻机 ASML

全球光刻机市场竞争加剧，ASML财报引发关注

近日，ASML发布最新三季度财报后，股价创26年来最大跌幅引起市场极大关注。在此期间，尼康和佳能陆续发布的光刻机研发最新进展也引起行业聚焦。

全球半导体观察

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10/25 14:19

光刻机 ASML

为什么研发EUV光刻机那么难？

虽然表面上看，光刻机是半导体制造的工具之一，但它的背后涉及复杂的多学科交叉与全球化合作。EUV光刻机依赖于波长仅为13.5纳米的极端紫外线（EUV）光源，而这种光源的产生与控制是最大的技术挑战之一。你可以把EUV光源想象成一个非常难以控制的“灯泡”，但这个“灯泡”不仅需要在超高真空环境下工作，还必须产生极其稳定和强大的光束。任何微小的不稳定都会影响最终的成像效果。

老虎说芯

3447

10/18 08:20

光刻机 EUV光刻机

光刻机

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