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以下是关于16NM芯片工艺和制程中用到的光刻机相关的详细科普文章。
1.16NM芯片工艺的实现时间
16NM芯片工艺是在2014年实现的。它是指加工芯片平面上的最小线宽（距离）为16纳米，在这个工艺下，集成电路可在同样大小的芯片面积内容纳更多的晶体管，从而实现更高的性能、更低的功耗和更小的体积。具体实现方式需要依赖光刻机等设备完成。
2.16NM芯片用的光刻机
16NM芯片制造所需的光刻机种类相对比较多，主要包括ASML公司生产的i-line、KrF和ArF等光刻机系列，以及日本尼康、佳能（Canon）等公司的光刻机。
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