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MRFE6VP5600HR6、MRFE6VP5600HSR6侧向N沟道宽带射频功率MOSFET

2023/04/25
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射频功率场效应晶体管、高强度N-沟道、增强型侧向MOSFET,这些高强度器件专为高VSWR工业(包括激光和等离子激励器)、广播(模拟和数字)、航空航天和无线电/陆地移动应用而设计。它们具有无与伦比的输入和输出设计,可在1.8至600 MHz的宽频段范围内使用。

特点

• 无与伦比的输入和输出设计,可在宽频段范围内使用

• 该器件可以单端或推挽配置使用

• 最大50 VDD操作

• 从30 V到50 V范围进行特征化,扩展功率范围

• 适合线性应用,并配以适当的偏置

• 集成ESD保护,具有更大的负栅源电压范围,以改善C类操作

• 通过串联等效大信号阻抗参数进行特征化

• 符合RoHS标准

• 带卷筒带和卷盘。R6后缀= 150个装置,56毫米带宽,13英寸卷筒。 有关R5带卷筒选项,请参见第12页。

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器件型号 数量 器件厂商 器件描述 数据手册 ECAD模型 风险等级 参考价格 更多信息
2N6073AG 1 Littelfuse Inc 4 Quadrant Logic Level TRIAC, 400V V(DRM), 4A I(T)RMS, TO-225, LEAD FREE, CASE 77-09, 3 PIN
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C0402C104K4RACTU 1 KEMET Corporation Capacitor, Ceramic, Chip, General Purpose, 0.1uF, 16V, ±10%, X7R, 0402 (1005 mm), -55º ~ +125ºC, 7" Reel/Unmarked

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GCM21BR71A106KE22K 1 Murata Manufacturing Co Ltd Ceramic Capacitor, Multilayer, Ceramic, 10V, 10% +Tol, 10% -Tol, X7R, 15% TC, 10uF, Surface Mount, 0805, CHIP, ROHS COMPLIANT

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恩智浦

恩智浦

恩智浦半导体创立于2006年,其前身为荷兰飞利浦公司于1953年成立的半导体事业部,总部位于荷兰埃因霍温。恩智浦2010年在美国纳斯达克上市。恩智浦2010年在美国纳斯达克上市。恩智浦半导体致力于打造全球化解决方案,实现智慧生活,安全连结。

恩智浦半导体创立于2006年,其前身为荷兰飞利浦公司于1953年成立的半导体事业部,总部位于荷兰埃因霍温。恩智浦2010年在美国纳斯达克上市。恩智浦2010年在美国纳斯达克上市。恩智浦半导体致力于打造全球化解决方案,实现智慧生活,安全连结。收起

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