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最近一则有关华为芯片的消息火遍全网——“华为两个14nm芯片叠加成7nm级别的芯片”。先不说这道命题的真假,现在的自媒体还真能把事情带偏。具体消息截图如下:
这个问题在知乎和头条上引起了热烈的讨论,在几个"凡是"的指导思想下,头条上一律是赞美,而知乎上和往常一样的泼冷水。小木匠本着不信谣不传谣的宗旨,技术至上的理念,认真查了查这个专利。
这件专利名称是:一种芯片的同步方法及相关装置,公开专利号为:CN112817368A。专利信息如下:
至少从名称上来看,没看出来和14nm+14nm>=7nm这个结论。作为一个伪专利解读人,我们一起来看一下这份专利,通过这个专利到底能不能实现14nm+14nm>=7nm的功能?我们进一步看看专利内容。
专利图示如下:
从专利图示和专利简介来看,这主要是关于两个芯片的同步方法:第一芯片持续向第二芯片发送同步信号;第一芯片在同步信号中加入上升沿或下降沿,并在等待第一偏移时间后,进入预设工作模式;第二芯片持续接收同步信号,当接收到的同步信号出现上升沿或下降沿后,第二芯片在等待第二偏移时间后,进入预设工作模式。目的是通过同步来使得几个芯片进入同一工作模式,而降低芯片设计和布局的复杂度。
专利文件已经上传到射频学堂的网盘里,需要的同学,可以自行下载。
链接:https://pan.baidu.com/s/1L1mhZQ1bjgemozbuHB6rnw
提取码:RFCL
说实话,我没看出来这个专利就能实现两个14nm叠加能实现大于等于7nm芯片的效果。
可能很多同学会有这个疑问,14nm,7nm到底代表什么?为什么这个数值越小越好。小木匠查了一些资料,在这简单给大家介绍一下:14nm和7nm是指芯片的制程,这些纳米值实际上并不代表晶体管的尺寸,而是代表用于制造它们的制造技术。制程越小,会带来下面两个主要好处:
1)性能:随着晶体管尺寸的减小,我们可以在相同的单位面积中安装更多数量的晶体管。因此,我们可以从相同大小的处理器获得更高的处理能力。
2) 电源效率:较小的晶体管需要较少的功率来运行。这降低了芯片的整体功耗。更少的功率也会导致产生更少的热量,从而使我们能够进一步提高时钟速度。
但是,制程越小,就意味着生产制造难度越高。目前传言,国内能量产14nm的芯片,而台积电很早就宣布能制造5nm芯片,今年会量产3nm,新的 3nm 生产节点的功耗降低了 25-30%。也就是说,目前大陆水平比台积电还落后好几代。
从华为海思最近公布的芯片专利来看,涉及到芯片制造工艺的专利越来越多,比如下图关于晶圆测试和晶圆清洗的两个专利。从专利申请日算起的话,现在已经有一年多时间了,相信我们能看到的已经不是华为掌握的最新技术。期待能有进一步的突破。
对于技术,永远没有大跃进,也没有任何捷径可选,我们只有踏踏实实,一步一个脚印,一点点积累,总能实现。
加油,射频人!我们可以做到的!