JSR 株式会社近日公布,已经完成对 Inpria Corporation (以下简称为:“Inpria 公司”)的增资。此次增加的投资将会成为 Inpria 公司 C 轮融资的一部分,而此次 C 轮融资是 Inpria 公司以推进 EUV 极紫外光刻的商业化为目的而募集的。
根据 JSR 官网报道,Inpria 公司自成立以来,一直致力于研发含有非化学放大类的极紫外光刻,现在,以锡氧化物为主要成分的光刻胶在学会团体的 EUV 曝光中已经达到了全球最高性能的极限分辨率。
通过此次出资,使得 JSR 与 Inpria 公司在多方面进行合作,以加快极紫外光刻的商业实用化。
Inpria 公司的发表内容如下(2020 年 2 月 20 日公布)
「EUV Photoresist Pioneer Inpria Raises $31 Million in Series C Funding Led by JSR Corporation - Expanded Investor Group Reflects Growing Industry Support-」
【Inpria 公司的概要】
公司名:Inpria Corporation
所在地:美国俄勒冈州科瓦利斯(Oregon State Corvallis)
公司代表:Andrew Grenville
业务内容:研发含有金属的 EUV Resist(极紫外光刻)
成立时间: 2007 年