从技术角度来看,Pilot Run是指在新工艺平台或新产品开发过程中,在进入大规模量产之前进行的一系列小规模生产运行,用以验证和优化工艺流程、设备性能、材料选择、设计参数等。通过Pilot Run,可以提前发现潜在问题,并及时进行调整,确保后续大规模量产的顺利进行。以下是Pilot Run的主要技术环节与作用:
验证工艺流程:Pilot Run的目的是验证整个工艺流程是否能够按照设计目标进行,确保所有步骤的连贯性和可重复性,特别是在集成电路制造中,工艺流程非常复杂,每一步都可能影响最终的电性表现和良率。
评估材料性能:在Pilot Run中,选择适当的材料并测试其在不同工艺步骤中的表现,包括HKMG(High-k Metal Gate)材料、SiGe、TSV材料等。通过小规模的生产运行来确保材料性能符合设计要求,并优化相应的参数。
优化电性表现:Pilot Run还用于电性测试,通过对参数如Threshold Voltage (Vt)、Gate Leakage、SRAM、DRAM等关键电性指标的评估,确保产品的电性性能符合要求。Pilot Run中也常涉及对工艺参数的微调来改善电性表现。
良率评估:良率是制造过程中重要的评估指标。在Pilot Run中,评估的是新工艺平台下产品的制造良率是否达到预期。这个过程通常通过WAT(Wafer Acceptance Test)以及后续的电性测试(例如SRAM或DRAM的测试)来确认。
解决工艺问题:Pilot Run过程中经常会遇到一些在设计和试验阶段未发现的工艺问题,例如M1与TCP的短路问题、TSV与M1分层问题等。在此阶段通过数据收集和分析,及时优化工艺流程、参数设定,提出相应的解决方案。
可靠性验证:在Pilot Run中,还会进行一系列的可靠性测试,确保在不同工艺环境下,产品的长期稳定性。例如HKMG中的Gate Leakage、电迁移、热稳定性等。
KIP和KEP评估:KIP(Key In-line Parameter)和KEP(Key Electrical Parameter)是Pilot Run中常用的评估指标。这些参数通过实际生产数据反馈,确保生产过程中关键参数在控制范围内,从而评估工艺的可行性和稳定性。