知识星球(星球名:芯片制造与封测技术社区,星球号:63559049)里的学员问:ASML的TWINSCAN XT系列的scanner机台的WPH最高能达到300pcs,为什么Scanner的产能远远高于stepper?
什么是stepper和scanner?
sepper,全名步进投影式光刻机。Stepper 每次曝光晶圆上的一小块区域,即一个shot,然后晶圆在曝光后移动到下一个区域,重复此过程,逐步曝光整个晶圆。scanner,全名步进扫描投影式光刻机。
为什么Scanner更快?
这要从其工作原理来入手。
Stepper 每次曝光晶圆上的一小块区域,即一个shot,然后只有晶圆在曝光后移动到下一个区域,掩模版不动重复此过程,逐步曝光整个晶圆。
而Scanner是一个狭长的光束(狭缝光束)投影到晶圆的每个芯片上进行曝光。晶圆在曝光时不断移动,掩模和晶圆之间向相反方向移动,光束逐步扫描整个晶圆。见视频:在Scanner中,掩模版和晶圆在曝光时同时移动,减少了曝光过程中的停顿时间。另一方面Scanner在曝光时不需要频繁地进行对准和定位。这两个方面使Scanner极大地提高了时间利用率。
哪些机台会用Scanner的方式?
以ASML的机台为例,之前的i线光刻机普遍采用的是stepper,现有的DUV,EUV产品均是采用的是Scanner。
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