上期文章中,我们列举了ASML的G线,i线光刻机型号,见文章:ASML的光刻机型号汇总(上)
本期,我们要罗列下ASML的EUV光刻机的型号及主要技术参数。
ASML公司的EUV介绍极紫外光刻 (EUV) 技术使用波长为13.5纳米的光。高能激光聚焦在熔融锡的微小液滴上,产生等离子体并发射出EUV光。锡滴的温度可达到 220,000 摄氏度——是太阳平均表面温度的 40 倍。
然后,光线通过蔡司镜反射到晶圆表面,从而在晶圆上呈现出芯片的设计的图案。截至 2022 年,ASML 已出货约 140 台 EUV 系统,而且它是唯一一家制造EUV的公司。
ASML 最畅销的 EUV 产品是 TWINSCAN NXE:3600D,其售价高达 2 亿美元。这台光刻机约180吨,卡车大小的体积,需要用三架波音 747运输。ASML的EUV光刻机主要是TWINSCAN NXE,TWINSCAN EXE系列,见下表:
下期我们会总结ASML公司DUV光刻机型号。
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