射频电源的频率与等离子体能量，密度的关系？

知识星球（星球名：芯片制造与封测技术社区，星球号：63559049）里的学员问：等离子刻蚀机台的频率有13.56MHz，2.45GHz等，频率的大小的不同会对造成什么影响？该怎么选用。

射频电源的作用？

射频电源主要用于PECVD、HDPCVD、PEALD、干法刻蚀、去胶、PVD、干法清洗等设备中，起到激发等离子体、选择刻蚀方向等作用。

射频电源有哪些常见频率？

13.56MHz，2.45GHz，40-100KHz，2MHz其中，13.56MHz是半导体设备最常见的频率。

如图所示：频率越高，离子能量一般越低，密度越大；频率越低，离子能量一般越高，密度越小。

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器件型号	数量	器件厂商	器件描述	ECAD模型	参考价格	更多信息
MAPS-010164-TR0500	1	MACOM	Coaxial Mechanical Phase Shifter, 2300MHz Min, 3800MHz Max, 0deg Min, 360deg Max, MO-220VGGD-2, QFN-24	ECAD模型下载ECAD模型	$75.49	查看
HMC661LC4BTR	1	Analog Devices Inc	Ultra Wideband 4 GS/s Track-and-Hold Amplifier, DC - 18 GHz		$1727.94	查看
SKY13351-378LF	1	Skyworks Solutions Inc	SPDT, 2000MHz Min, 6000MHz Max, 1 Func, 0.65dB Insertion Loss-Max, GAAS, QFN-6		$0.78	查看

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