1993
阿斯麦出了一则关于出口的声明。
大致内容是，尼德兰政府公布了关于更多即将实施的半导体设备限制的信息，这些新的限制集中于先进芯片的制造技术，包括最先进的沉积和浸没是光刻工具。
由于这些即将出台的法规，阿斯麦需要为最先进的浸没式DUV申请出口许可证。
这些限制措施要转化为立法并生效还需要一段时间。
基于今天的公告，阿斯麦表示对尼德兰官方许可政策的预期，以及当前市场的状况，我们判断不认为这些措施会影响我们公布的2023年度的财务前景，以及对去年11月投资日宣布的长期愿景产生实质性影响。
在这方面，额外限制并不适用于所有浸没式光刻工具，而适用于所谓的“最先进”工具，虽然阿斯麦还没有收到任何关于“最先进”的确切定义的额外信息，但是ASML将其解释为“关键浸没式”，我们将其定义为TWINSCAN NXT：2000i，及后续浸没式系统。
此外还指出，主要专注于成熟节点的客户可以很好地使用不太先进的浸没式，最后阿斯麦的长期方案主要基于全球长期需求和技术趋势，而不是详细的位置假设。
提醒，EUV 销售自2019年以来就已经暂停。
说白了就几句话：
尼德兰官方已经在立法了，阿斯麦也知道，但是不知道如何定义这个最先进的概念，因此目前公司暂时定义在NXT 2000i型的，也就说2000i以下的如 1980，1970，1950之类的不受影响，但是2000i型以上的如NXT 2050i，未来的2100i，基本大陆无望。
之前传言的浸没式系统全卡，肯定是扯的，现在1980Di还能买到和我之前的预判一样。
小科普一下，虽然说卡在NXT 2000i上，但是据我所知2000i早已经停产了，所以我写的是NXT 2050i。
目前有数台NXT 2050i交付，后续订单应该能赶上交付，但是总数不会超过10台，这已经是目前能从尼德兰买到最好最新锐的设备了，且用且珍惜。
至于NXT 1980Di当年也是机皇。2年前，闹闹的沸沸扬扬的唯一7机被抵押，就是它。
在TSMC第一版的N7工艺中，当时还没有EUV，就是用NXT 1980Di配合多曝工艺实现的，所以理论上NXT1980Di是能够做到N7。
可以说NXT 1980Di 还能卖，给后续N+1，N+2工艺留了一口气。
科普一下1980Di的一些参数。
1980Di 有着小于1.6nm的DCO，小于2.5nm的MMO，WPH大于275（96fields），而且还改善了与EUV的匹配性等。
DCO，MMO是各种套刻精度参数。
关于历史，大家可以再看一遍，我自认为全网最精彩的神文ASML的登峰之路，给你带来不一样的光刻机故事……（4万字长文）
如果你耐心阅读一遍大约需要2个多小时，但是这2个小时带来的信息量是非常震撼的。
对了，今天茂莱上市，这哥们是干镜片的，45%的业务来自于半导体，号称“小卡尔蔡司”。总之一句话，作为一个核心零部件公司，估值不能低于什么奥普，炬光，蓝英，福晶这种。
