激光器类型 | 工作波长 | 工作方式 | 应用场景 |
VCSEL | 850nm | 面发射 | 短距离200M内 |
FP | 1310nm/1550nm | 边发射 | 中距离500M-10KM |
DFB | 1310nm/1550nm | 边发射 | 长距离40KM |
DML | 1310nm/1550nm | 直接调制 | 中距离500M-10KM |
EML | 1310nm/1550nm | 外部调制、电吸收调制 | 长距离40KM |
100G光模块激光器芯片与硅光技术在100G光模块市场中,属100G QSFP28光模块市场份额较大,不同的QSFP28光模块采用了上述不同的激光器。
100G-SR4 QSFP28封装光模块,主要用于100m内的多模并行方案,其内部多采用VCSEL激光器,VCSEL激光器具有体积小、耦合率高、功耗低、易集成、价格低等优势;
而对于
100G-PSM4 QSFP28封装光模块,在芯片技术上有了新的突破---Intel面向数据中心场景的硅光混合集成100G PSM4光模块早已实现量产,并且由于更低的BOM(零件物料)成本优势占据了PSM4产品80%的市场份额,主要用于500m以下的4通道并行单模方案。
硅光技术在光模块行业面临的优势与挑战目前光集成商业产品技术路线主要分为InP和Si两大阵营,其中DFB、DML、EML等激光器是InP阵营,虽然技术相对成熟,但是成本高,与CMOS工艺(集成电路工艺)不兼容,其衬底材料每2.6年才翻一倍。而Si硅光器件,采用COMS工艺实现无源光电子器件和集成电路单片集成,可大规模集成,具有高密度的优势,其衬底材料每1年可翻一倍。
目前100G光模块已打开了硅光技术的大门,但其发展仍然面临一些挑战。
首先, 硅基集成激光光源有待解决。硅是间接带隙半导体,相比于InP等直接带隙半导体,硅光模块中需要单独引入光源,而光源并不符合摩尔定律,耦合集成得越多成本也越高,将会不断抵消硅材料和工艺集成带来的成本优势。
其次,硅光模块封装难度大,良率低。硅光接口封装处于初期阶段,主要瓶颈在于光电子芯片和光纤阵列组建的光接口封装,其对准与封装的精度要求高,封装效率低,现阶段的封装技术难以实现高质量,低成本的封装,产品良率限制了硅光模块的大规模量产。
另外, 硅光芯片可获得量产化资源少。尽管硅光芯片与CMOS工艺兼容,但成熟的CMOS资源不对外开放或者没有硅光流片经验。
400G数据中心硅光技术将成为光模块主流吗?从长期来看,硅光方案是大势所趋,在400G光模块时代或将大规模发力。
面对400G网络高速率的需求,市面上提出的多通道相干技术虽然降低了对芯片的要求,但整体成本较高,而单通道技术对芯片的要求更高,以100G光模块情况来看,传统的激光器已接近带宽极限,唯一有可能的EML激光器成本也比较高,如果说硅光技术可以攻克上述难题,或将在400G光模块时代成为主流。
结论虽然400G光模块时代硅光技术有可能成为主流,但是毕竟目前是100G网络的主流时代,100G QSFP28光模块激光器芯片仍然以VCSEL、EML、DML为主。