《微电子制造科学原理与工程技术》第二版 美 坎贝尔著 ...

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目录
第1篇 综述与题材
　第1章 微电子制造引论
　第2章 半导体衬底
第2篇 单项工艺I:热处理和离子注入
　第3章 扩散
　第4章 热氧化
　第5章 离子注入
　第6章 快速热处理
第3篇 单项工艺2:图形转移
　第7章 光学光刻
　第8章 光刻胶
　第9章 非光学光刻技术
　第10章 真空科学和等离子体
　第11章 刻蚀
第4篇 单项工艺3:薄膜
　第12章 物理淀积:蒸发和溅射
　第13章 化学气相淀积
　第14章 外延生长
第5篇 工 艺 集 成
　第15章 器件隔离、接触和金属化
　第16章 CMOS技术
　第17章 GaAs工艺技术
　第18章 硅双极型工艺技术
　第19章 微机电系统
　第20章 集成电路制造
附录A 缩写与通用符号
附录B 部分半导体材料性质
附录C 物理常数
附录D 单位转换因子
附录E 误差函数的一些性质
附录F F数
附录G SUPREM指令