体内寄生三极管导通产生雪崩损坏,同时伴随着体内寄生三极管发生二次击穿,此时集电极电压在瞬态时间 1-2 个 n 秒内,减少到耐压的 1/2,原因在于内部耗尽层载流子发生雪崩注入,电场电流密度很大,接近硅片临界电场。电流大,电压高,电场大,电离强,大量的空穴电流流过基区 P 体电阻 RB,寄生三极管导通,集电极电压快速返回到基极开路时的击穿电压。增益大时,三极管中产生雪崩击穿,此耐压值低。
三极管中产生雪崩注入条件:电场应力,正向偏置热不稳定性。
MOSFET 关断时沟道漏极电流减小,感性负载使 VDS 升高,以维持 ID 电流的恒定,ID 电流由沟道电流和位移电流组成。位移电流是体二极管耗尽层电流,和 dV/dT 成比例。VDS 升高和基极放电、漏极耗尽层充电速度相关。漏极耗尽层充电速度和电容 Coss、ID 相关。ID 越大,VDS 升高越快。漏极电压升高,体二极管雪崩产生载流子,全部 ID 电流雪崩流过二极管,沟道电流为 0。