楼主: huachuixuezhiwu

话题活动:发表GaN想法和感受,即可获得大奖(绝壁公正)

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发表于 2016-7-22 12:50:31 | 显示全部楼层
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为了使功率放大器产品(包括驱动器和前置驱动器级)维持高效率,最终Doherty放大器(3.5 GHz频段的绝佳选择)的增益需要尽量高。
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发表于 2016-7-22 12:50:44 | 显示全部楼层
通过降低器件的寄生参数,以及采用更短的栅极长度和更高的工作电压,GaN晶体管已实现更高的输出功率密度、更宽的带宽和更好的DC转RF效率。
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发表于 2016-7-22 12:50:57 | 显示全部楼层
GaN技术可以在安全的频率上实现高效的电力传输,这对硅晶体管而言,是一件艰难的工作。将GaN技术带到更高的电压和更高的频率,可以扩展无线电力传输的距离。
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发表于 2016-7-22 12:51:03 | 显示全部楼层
我们为工程师带来可支持意想不到的全新领域的功率器件。在电阻方面,之前我们在DC/DC转换器并联氮化镓场效应晶体管(eGaN FET)从而实现更高的输出电流。
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发表于 2016-7-22 12:51:14 | 显示全部楼层
eGaN FET可以双面散热从而可以进一步提高其散热效率。至于从结点至外壳(RθJC)的热阻,除了30 V的MOSFET具有与eGaN FET可比的热阻外,在更高压时,eGaN FET具备无可匹敌的散热性能。
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发表于 2016-7-22 12:51:22 | 显示全部楼层
对于GaN材料,长期以来由于衬底单晶没有解决,异质外延缺陷密度相当高,但是器件水平已可实用化。
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发表于 2016-7-22 12:51:36 | 显示全部楼层
①禁带宽度大(3.4eV),热导率高(1.3W/cm-K),则工作温度高,击穿电压高,抗辐射能力强;
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发表于 2016-7-22 12:51:43 | 显示全部楼层
②导带底在Γ点,而且与导带的其他能谷之间能量差大,则不易产生谷间散射,从而能得到很高的强场漂移速度(电子漂移速度不易饱和);
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发表于 2016-7-22 12:51:52 | 显示全部楼层
③GaN易与AlN、InN等构成混晶,能制成各种异质结构,已经得到了低温下迁移率达到105cm2/Vs的2-DEG(因为2-DEG面密度较高,有效地屏蔽了光学声子散射、电离杂质散射和压电散射等因素);
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发表于 2016-7-22 12:52:02 | 显示全部楼层
④晶格对称性比较低(为六方纤锌矿结构或四方亚稳的闪锌矿结构),具有很强的压电性(非中心对称所致)和铁电性(沿六方c轴自发极化):在异质结界面附近产生很强的压电极化(极化电场达2MV/cm)和自发极化(极化电场达3MV/cm),感生出极高密度的界面电荷,强烈调制了异质结的能带结构,加强了对2-DEG的二维空间限制,从而提高了2-DEG的面密度(在AlGaN/GaN异质结中可达到1013/cm2,这比AlGaAs/GaAs异质结中的高一个数量级),这对器件工作很有意义。
总之,从整体来看,GaN的优点弥补了其缺点,特别是通过异质结的作用,其有效输运性能并不亚于GaAs,而制作微波功率器件的效果(微波输出功率密度上)还往往要远优于现有的一切半导体材料。
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