加入星计划,您可以享受以下权益:

  • 创作内容快速变现
  • 行业影响力扩散
  • 作品版权保护
  • 300W+ 专业用户
  • 1.5W+ 优质创作者
  • 5000+ 长期合作伙伴
立即加入

光刻机

加入交流群
扫码加入
获取工程师必备礼包
参与热点资讯讨论

光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。收起

查看更多
  • 无掩膜光刻机,微纳加工的下一个答案?
    无掩膜光刻机,微纳加工的下一个答案?
    第十四届中国国际纳米技术产业博览会(简称“纳博会”)在万众瞩目中圆满落下了帷幕。这场全球纳米科技领域盛会,以1场主报告、13场分论坛、1场创新创业大赛,1场新产品发布会为主,汇聚了全球纳米科技领域的18位院士,450多位高校研究院所、上市公司、知名企业机构的顶级专家代表出席,分享专业报告476场,较往届增加132场,同比增长约33%,吸引9663位嘉宾参会听会。
  • 整整185种!ASML、NIKON、CANON御三家光刻机型号大全
    整整185种!ASML、NIKON、CANON御三家光刻机型号大全
    在所有半导体设备里,光刻机确实是一个最有话题热度的门类了。我之前从ASML、NIKON、CANON三家的官网上下载收录了他们目前销售的光刻机型号,并汇总做成表格供大家参考,读者反馈不错。更有行业大佬写文章时引用我的数据后更是给我的公众号带来一波巨大流量。
  • 全球光刻机市场竞争加剧,ASML财报引发关注
    全球光刻机市场竞争加剧,ASML财报引发关注
    近日,ASML发布最新三季度财报后,股价创26年来最大跌幅引起市场极大关注。在此期间,尼康和佳能陆续发布的光刻机研发最新进展也引起行业聚焦。
  • 为什么研发EUV光刻机那么难?
    为什么研发EUV光刻机那么难?
    虽然表面上看,光刻机是半导体制造的工具之一,但它的背后涉及复杂的多学科交叉与全球化合作。EUV光刻机依赖于波长仅为13.5纳米的极端紫外线(EUV)光源,而这种光源的产生与控制是最大的技术挑战之一。你可以把EUV光源想象成一个非常难以控制的“灯泡”,但这个“灯泡”不仅需要在超高真空环境下工作,还必须产生极其稳定和强大的光束。任何微小的不稳定都会影响最终的成像效果。
  • ASML阿斯麦业绩“爆雷”,影响会波及多大?芯片需求真饱和了?
    ASML阿斯麦业绩“爆雷”,影响会波及多大?芯片需求真饱和了?
    日前,荷兰光刻机企业阿斯麦公布业绩“爆雷”,当日股价大跌16.26%,创近26年来最大单日跌幅,拖累美股芯片股集体下挫,包括英伟达、AMD、英特尔等半导体企业都出现不同幅度的下跌。据悉,阿斯麦第三季度的订单量仅达到分析师预期的一半左右,并下调了2025年的业绩指引。
    1373
    10/17 16:28